patent.html ... Patentrecherchen

^{Links zu nationalen und internationalen Patentdatenbanken
KEYWORDS:Patentrecherchen}

Datenbanken zum Recherchieren des Standes der Technik und zum Herunterladen ganzer Patentschriften

CA
EP, US (YET2.COM)
EP-A, EP-B, JP, PCT, US, INPADOC (kostenpflichtig, Delphion,Suche in Abstracts, Claims, Fulltext)
WO (OMPI, mit Guest-Account)
Patent Full-Text Database with Full-Page Images (USPTO)
Depatisnet (AT, CH, DD, DE, EP, FR, GB, JP, US, WO; Grundseite )
Dopales (Lateinamerikanische Patente; restricted Access)
DWPI (Derwent World Patent Index; letzte 3 Wochen kostenlos)
EAPO (Russisch)
EP-A, EP-B, JP, PCT, US, INPADOC (kostenpflichtig, Delphion,Suche in Abstracts, Claims, Fulltext)
Esp@ceNet weltweit (neuer Zugang, mit Inpadoc-Daten)
Esp@ceNet weltweit (alter Zugang)
Inpadoc (Indien)
KR KIPI (Korea Institute of Patent Information, Engl.)
PCT-Gazette (World Intellectual Property Organization; kostenloses Passwort )
Südamerika (Argentinien .... Venezuela) SurfIP (TW, SG, KR, AU, EPA, PCT, ...)
Vivisimo (Suchkategorie "Patente" anwählen)
WIPO IPDL

AR (Argentinien via Latipat)
AT (Esp@ceNet via CH-Server)
AT (Esp@ceNet AT-Server)): AU (Erst nach Download von geeigneter Software); AU (Pericles: Nur nach Nummern suchbar)
AU
BE (Esp@ceNet via CH-Server)
BE (Esp@ceNet BE.Server)

BO (Bolivien via Latipat)
BG (Bulgarien; ev. nicht aktiv)

BR (Brasilien, Home)

CA (seit 1920): CH (Esp@ceNet, Dt, mindestens seit 1994); CH (Esp@ceNet Engl); CH (Esp@ceNet, It); CH (Esp@ceNet, Fr); CH (seit 1888, Basic-Suchmaske); CH (seit 1888, Expert-Suchmaske); CH (seit 1888, allgemeiner Link (dt, fr,engl, it)

Volksrepublik China: CN (infonet; patent.com, kostenlos und kostenpflichtig); CN (englische Maske); CN ( auf chinesisch, jiansuo, kostenlos); CN (restricted Access)
CN (CNIPR)
CN (CNIPR)

CO (Kolumbien)

CY (Esp@ceNet via CH-Server)

CZ (Espacenet)
CZ (Tschechische Republik; Patente und Gebrauchsmuster)
CZ (Tschechische Republik; Patente und Gebrauchsmuster): DE (Esp@ceNet via CH-Server); DE (DEPANET, letzte 2 Jahre); DE (Patentblatt des Deutschen Patent- und Markenamtes; 1 Jahr); DE DPMA (Gemeinsame Startseite aller Schutzrechte; erst nach kostenloser Registrierung); DE DPMA Patente; kostenlose Registrierung)
DK (PVS-Online)
DK (Esp@ceNet via CH-Server)
DK (Esp@ceNet via DK-Server)

EP(Esp@ceNet via CH): ES(Erfinderprivilegien 1819 - 1878); ES (Patente 1878 - 1900); ES( 1845 - 1936); ES (OEPMPAT)
ES (LATIPAT); ES(CLIPAT); ES (Esp@ceNet via CH-Server); ES (Esp@ceNet via ES-Server)
FI (Gebrauchsmuster)
FI (Patinfo)
FI (Esp@ceNet Level I, letzte 2 Jahre)
FR (Esp@ceNet via CH-Server)
FR (Esp@ceNet via FR-Server)
GB (Esp@ceNet via CH-Server)
GB (Esp@ceNet via GB-Server)

GB (alte Patente seit 1617)

HR (Kroatien)

HU (Patent); HU (Gebrauchsmuster); HU (Engl); HU; HU (pipacs); HU (alte Oberfläche)

IE (Esp@ceNet via CH-Server)
IE (Esp@ceNet via IE-Server) IE
IE (via register)

IN (Indien; restricted Access)
Italien: Italien (fildata); IT(Esp@ceNet via CH-Server); IT (Esp@ceNet via IT-Server)
Japan: Japan (Esp@ceNet, Daten ab 1.10.1976); Japan(Esp@ceNet); Patolis (Englisch) (Patent Online Information System; nur mit Passwort); Patolis (Japanisch) (Patent Online Information System; nur mit Passwort); PAJ (Neue URL des JPO ohne Miti; Grundseite); PAJ (Maschinelle Engl. Übersetzung des vollständigen Dokumentes: auf >DETAILS< klicken); JP auf Japanisch (nur mit JP Tastaturtreiber)
Korea: KR (Korea via SurfIP)
KR KIPI (Korea Institute of Patent Information, Engl.)

LI ( vgl. CH)

LU (Esp@ceNet via CH-Server)
LU (Esp@ceNet via LU-Server)
LV (nach Erfinder)
LV (nach Thema)
MC (Esp@ceNet via CH-Server)
MC (Esp@ceNet via MC-Server)

MX (via Latipat)

SI (Slovenien)

SG (Singapur via ePatents)
SG (Singapur via SurfIP)
SK (Slovakei, erteilte Patente) SK (Slovakei Patentanmeldungen)
SK (Slovakei, Gebrauchsmuster)
TH (Thailand)

TW(Publikationen Seit 1996)
TW (SurfIP)
TW (apipa) TW (Tipo): US (COS, Patent citations seit 1971; gebührenpflichtig); US (DELPHION Abstracts ab1971, Bilder ab 1976); US (MICROPAT; meiste Information gebührenpflichtig); Patent Bibliographic and Abstract Database (USPTO; seit 1790 (!); eingeschränkte Suchkriterien für alte Patente beachten!; ); US Utility, Plant, Design, Reissue, Def.publ, SIR (PATENTGOPHER; nur nach Nummern suchbar )
PCT / WO
WO PCT Advanced Search
WO (OMPI, mit Guest-Account) WO (EPA)

ZA Süd Afrika (nur mit Passwort)

			Ó Amoebius Stand: 04. Januar 2005
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